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硅光技術面臨挑戰(zhàn) 新應用正起步
劉璐 2020-01-10 人民郵電報
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全球信息技術正處于創(chuàng)新活躍時期,在新型業(yè)務及應用模式的驅(qū)動下,數(shù)據(jù)流量呈爆發(fā)式增長,光傳輸及光互聯(lián)系統(tǒng)在帶寬、成本、功耗和尺寸等方面面臨挑戰(zhàn)。硅光技術結(jié)合了CMOS技術的超大規(guī)模邏輯、超高精度制造的特性和光子技術超高速率、超低功耗的優(yōu)勢,是一種可解決技術演進與成本矛盾的創(chuàng)新性技術。由于短期無法解決光源等問題,預計硅光在未來相當長的時間內(nèi)無法完全取代傳統(tǒng)III-V族材料,但目前其技術發(fā)展勢頭強勁,產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷擴大,新產(chǎn)品與應用也在不斷推進,已成為業(yè)界持續(xù)關注的熱點技術。

圖片來源于網(wǎng)絡

硅光多技術環(huán)節(jié)面臨挑戰(zhàn)

硅是間隙能帶材料,不適合作為通信波段光源,不過除光源外的其他無源有源器件如分束器、復用/解復用器、調(diào)制器等均已初步成熟,進入可規(guī)?;a(chǎn)階段。為了解決光源問題,硅光集成芯片通常采用混合集成方案,即在硅片上引入III-V族光源,光芯片與電芯片在各自平臺上進行獨立設計與制造,之后再進行組裝?;旌霞伸`活度高,前期工藝成本低,但光電芯片之間的鍵合會引起寄生效應,后期封裝成本較高。不過鑒于當前硅基光源的低成熟度,混合集成在未來相當長的時間內(nèi)仍會占據(jù)主導地位。

目前,硅光的設計工具,即光電設計自動化(EPDA)仿照微電子設計自動化(EDA)流程,但在元件標準化、設計規(guī)則檢查等方面尚未完全成熟,自動化程度低,客戶的普及率也有待提高。國外EPDA軟件在傳統(tǒng)EDA的基礎上融合光學仿真與光器件工藝設計包(PDK),發(fā)展迅速。而國內(nèi)基本沒有專業(yè)從事EPDA軟件開發(fā)的商業(yè)機構(gòu),尚處于起步階段。

硅光工藝流程需要在標準CMOS工藝基礎上增加若干工藝步驟,同時需要針對硅光器件進行大量的工藝參數(shù)優(yōu)化設計,目前面臨著自動化程度低、產(chǎn)業(yè)標準不統(tǒng)一、器件單元尚未標準化等技術難關。國外的Intel、ePIXfab等已在硅光加工制造方面具有多年技術積累,而國內(nèi)硅光工藝平臺處于起步階段。

硅光芯片的封裝仍存在挑戰(zhàn)。在光學封裝方面,耦合損耗較大;硅基光源效率低,而主流的混合集成方案,生產(chǎn)工藝與封裝校準要求嚴苛。在電學封裝方面,隨著性能的不斷提升,平均管腳密度將會大幅度增加,這也會為封裝帶來很大的挑戰(zhàn)。隨著硅光向三維集成方向的發(fā)展,光芯片將與電芯片統(tǒng)籌設計、制造、封裝,且封裝過程將與設計、制造過程緊耦合,這有可能使歐美傳統(tǒng)微電子大廠占得先機。

新產(chǎn)品與新應用正在起步

近年來,硅光產(chǎn)業(yè)規(guī)模逐步擴大。2016年,Yole預測后續(xù)硅光技術的整體市場將保持高速增長,2015年至2025年的10年間,復合增長率超過45%,到2025年硅光市場規(guī)模將超13億美元。而2018年,Yole將預測規(guī)模調(diào)整為2024年達到41.4億美元。

電子大廠與下游企業(yè)切入市場,縱向整合長期存在。硅光技術是光學技術和半導體技術的結(jié)合,隨著光學和專用集成電路(ASIC)逐步走向共同封裝,需要更緊密的設計關系,硅光技術的半導體屬性越來越強,在整個產(chǎn)業(yè)鏈中電子公司的地位越來越高。Intel、IBM、STMicroelectronics、NEC、華為海思等公司均投入研發(fā)。下游客戶(大型互聯(lián)網(wǎng)公司、運營商、通信設備廠商等)也嘗試通過并購與合作積極布局硅光研發(fā),呈現(xiàn)出下游客戶切入中上游制造過程的趨勢。這些廠商切入硅光模塊,與自身原有的產(chǎn)品相結(jié)合,將會降低整個設備的成本,如Facebook于2013年與Intel合作開發(fā)數(shù)據(jù)中心機架,Cisco于2018年宣布收購Luxtera并計劃于2020年完成收購Acacia,Ciena、Juniper、華為等領軍企業(yè)也紛紛通過此方式入局。

數(shù)據(jù)中心仍為硅光最主要應用場景。數(shù)據(jù)中心中連接數(shù)量大,節(jié)點間距離短,適用于數(shù)量大、成本敏感但對性能要求不高的模塊。尤其是在100G PSM4短距和400G高速應用方面,硅光優(yōu)勢明顯。據(jù)Yole預測,到2025年,硅光市場超過90%的應用將來自數(shù)據(jù)中心。

硅光新領域應用處于早期研發(fā)和起步階段。在5G方面,硅光調(diào)制器+直流大功率激光器技術在90℃~95℃高溫極端環(huán)境中存在用武之地。同時,硅光集成芯片規(guī)模商用有望使相干技術降低成本進而大批量應用于5G回傳光網(wǎng)絡。各廠商針對5G應用也紛紛推出相應產(chǎn)品,如Intel最新的100G硅光收發(fā)器可滿足5G無線前傳應用的帶寬需求并符合工業(yè)級溫度要求,Sifotonics 于OFC2019上展示了適用于遠距離5G前中回傳應用的雪崩二極管(APD)接收機模塊等。在高性能計算方面,通過光互聯(lián)、光神經(jīng)網(wǎng)絡、光量子計算等途徑均已實現(xiàn)樣機,如初創(chuàng)公司Ayar Labs宣布即將發(fā)布一款名為TeraPHY的光電I/O芯片,該芯片基于45nm CMOS SOI工藝,帶寬可達Tb/s數(shù)量級。在激光雷達方面,初創(chuàng)公司Voyant Photonics、OURS等研制出基于硅光技術的激光雷達測試芯片,具有低成本、高穩(wěn)定性、高速率等優(yōu)點。在生化傳感方面,傳統(tǒng)設備的尺寸、成本與靈敏度目前仍然存在問題,而硅光則提供了一種可能的解決方案。IBM公司展示了一種基于硅光技術的芯片級光譜儀,成本大幅降低。Genalyte公司開發(fā)了基于硅光傳感的快速血液檢測系統(tǒng),宣稱只需1滴血就可以在15分鐘內(nèi)完成128項測試。對于這些新領域來說,整個產(chǎn)業(yè)鏈還處于發(fā)展早期,整體出貨量低,無法實現(xiàn) CMOS 大規(guī)模生產(chǎn)帶來的成本效應,也無法支撐良率提升和生產(chǎn)制造工藝的優(yōu)化,目前還主要是研究機構(gòu)和公司的一些初期成果。

硅光規(guī)?;l(fā)展需找準定位。硅光技術產(chǎn)品性能及成熟度仍有待提升,下游客戶驗證也需要時間,短期內(nèi)實現(xiàn)規(guī)模化發(fā)展存在挑戰(zhàn)。從研發(fā)方角度,硅光技術前期投入大,只有得到大量部署其成本優(yōu)勢才會顯現(xiàn);從應用方角度,希望看到成本下降后,才考慮大量使用。兩者之間存在一定矛盾,產(chǎn)業(yè)規(guī)?;l(fā)展還需找準定位,進行模式突破。預計硅光將在數(shù)量大、成本敏感但對性能要求不高、對集成小型化/光電緊耦合有強烈要求等場景中具有廣闊應用前景。

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